据日经新闻报道，英特尔将与日本国家先进产业科学技术研究所（AIST）合作，在日本建立先进半导体制造设备和材料研发(R&D)中心，预计将在3-5年内完成，并引进ASML极紫外线光刻（EUV）设备。报道称，该研发中心将是一项重大投资，英特尔和AIST计划向该项目投入数千亿日元。AIST将率先运营研发中心，英特尔将提供使用EUV光刻设备的关键半导体制造专业知识，设备制造商和材料公司将付费使用该设施进行原型设计和测试。