10月17日消息，中国光谷诞生重大科技成果，湖北企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破。

日前，武汉太紫微光电科技有限公司（简称太紫微公司）在全国率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方，我国芯片制造关键原材料取得瓶颈性突破。该公司推出的T150A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。

从性能来看，该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列，相较于国外同系列产品UV1610，T150A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀。

长江商报记者注意到，太紫微公司成立至今不到5个月时间。天眼查显示，太紫微公司成立于2024年5月31日，地址位于武汉光谷，是一家以从事研究和试验发展为主的企业，企业注册资本200万元。公司法定代表人为朱明强，持股比例40%，最终受益股份77%。

根据华中科技大学官网，朱明强为华中科技大学武汉光电国家研究中心二级教授，光学与电子信息学院双聘教授，主要研究领域为有机及纳米光电子学，研究方向包括荧光分子开关合成与应用、有机光电材料与器件。朱明强于2018年入选英国皇家化学学会会士，近五年来主要从事荧光分子开关合成及超分辨显微成像、聚集诱导发光、光刻胶，以及先进能源材料和器件等项目的相关研究。

这意味着，太紫微公司的背后，有着华中科技大学武汉光电国家研究中心团队的强力支撑。

武汉光电国家研究中心是科技部于2017年批准建设的第一批、也是唯一一批6个国家研究中心之一，其前身为2003年获批的武汉光电国家实验室。该团队主攻关键光刻胶底层技术研发，已在电子化学品领域深耕20余年。

本次太紫微公司推出的T150A光刻胶产品，堪称业界的一颗新星。太紫微公司负责人朱明强表示，这是我国首次攻克合成光刻胶所需原料和配方，对我国逐步改变在集成电路领域的受制现状具有重大意义。不过从原材料开发起步，最终获得自主知识产权的配方技术，这仅仅是初步成果。未来团队还将研发一系列适用于不同场景的KrF与ArF光刻胶，为国内相关产业带来更多创新与突破